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連續(xù)式回轉(zhuǎn)爐能夠?qū)崿F(xiàn)高密封精度的指標要求

連續(xù)式回轉(zhuǎn)爐適用于無機鹽粉體材料（如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇）、金屬粉體等在氧化性（如空氣）或還原性氣氛（如氮氫混合氣）下的焙燒反應，也適用于化工行業(yè)催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料。回轉(zhuǎn)窯的主要特點：在熱處理即焙燒過程中，回轉(zhuǎn)筒體有個小傾斜度，散裝固體在窯中不斷地從進料端移動到出料端。窯爐一般都是連續(xù)、自動運行的。它們可以直接運輸散裝固體，而不需要進一步的輸送設(shè)備，這使得這些窯爐更加節(jié)能。由于回轉(zhuǎn)窯焙燒工藝對散裝固體或者粉體有著重要的機械影響，因此必...

氣氛管式爐在操作時，以下幾點得注意了

相信大多數(shù)人都知道，在工業(yè)上使用的氣氛管式爐中，許多可控氣體是可燃的，在特殊的條件下可能發(fā)生爆炸。這種爆炸可能損壞設(shè)備和威脅操作人員的人身安全。因此，在設(shè)備運行中，應對潛在的危險給予高度重視。在已發(fā)生的事件中，特別引人注意的是，必須按照操作規(guī)程進行操作。在可能發(fā)生危險之前，必須認真分析和研究安全操作規(guī)程。沒有多少設(shè)備在任何危急的情況下都能安全地運行。既使能做到這一點，但為了提高生產(chǎn)率，技術(shù)熟練的操作者往往也不愿意在整個生產(chǎn)過程中使用所有的安全系統(tǒng)。下面我們一起去看看氣氛管式爐...

淺析PECVD系統(tǒng)的工藝原理

PECVD系統(tǒng)主要由真空和壓力控制系統(tǒng)、淀積系統(tǒng)、氣體及流量控制、系統(tǒng)安全保護系統(tǒng)、計算機控制等部分組成。該技術(shù)是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產(chǎn)生輝光放電，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。工藝原理：在反應過程中，反應氣體從進氣口進入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發(fā)的電場作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解...

滑軌式管式爐淬火不充分引起變形

滑軌式管式爐是一體化結(jié)構(gòu)設(shè)計，用于1100℃以下快速升溫快速降溫的特殊工藝要求，通過移動爐體實現(xiàn)快速冷卻的目的。同時也可以預先設(shè)定溫度，然后移動到樣品處，達到快速升溫的效果。適合用于廣泛的RTP工藝及CVD石墨烯工藝。適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。爐體采用MXG1200開啟式管式爐，爐底安裝有直線滑軌，當生長結(jié)束后，左右拉動爐體能夠保證有足夠的空間使實驗樣品移出爐體，實現(xiàn)快速降溫的要求。性能特點：1、工作溫度RT-1000℃；2、日本進口智能程序控溫儀控制精準，可編...

壓力燒結(jié)爐的主要功能和特點

壓力燒結(jié)爐采用立式結(jié)構(gòu)由爐體、爐升蓋降機構(gòu)、真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)，溫控系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，內(nèi)壁為16MnR壓力容器專用鋼，外層優(yōu)質(zhì)碳鋼，中間通水冷卻。爐內(nèi)發(fā)熱元件為石墨管，保溫元件為碳氈及石墨復合結(jié)構(gòu)。爐側(cè)裝有一觀察孔、紅外測溫口、熱電偶孔。熱電偶選用鎢錸型，同時具有高溫時自動退出加熱區(qū)的功能。適用于氮化硅陶瓷球，陶瓷刀具、LED粉體還原與燒結(jié)、硬質(zhì)合金，粉末冶金燒結(jié)等材料在高壓氮氣或氬氣氣氛內(nèi)進行燒結(jié)，有利于增加材料的燒結(jié)密度，提高材料的機械性能。燒結(jié)工藝應用：...

使用高溫管式爐時，容易忽略的幾個問題

高溫管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，LED發(fā)光材料，磨具等行業(yè)測定材料在一定氣氛條件下的專業(yè)設(shè)備。可選擇單設(shè)定點或30段可編程控制器。節(jié)能型的陶瓷纖維材料和雙層結(jié)構(gòu)，可將外表溫度降到常溫。均溫區(qū)長，操作簡便，密封可靠，綜合性能指標較高。爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。高溫管式爐的結(jié)構(gòu)簡單，熱效率高，又能連續(xù)生產(chǎn)，并且操作方便，因此在冶金，玻璃，熱處理，新能源等的行業(yè)中有著廣泛的應用，為了更好地使用，要注意使用規(guī)范，以下是根據(jù)相關(guān)工作人...

還不了解什么是PECVD系統(tǒng)？請看這里！

什么是PECVD系統(tǒng)？它是化學氣相沉積法，是一種化工技術(shù)，該技術(shù)主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。它是一種PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）的管式爐系統(tǒng)，它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空泵和三通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)組成。它可以混合1-3種氣體用于CVD或擴散。化學氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮...

真空電阻爐的原理、應用及發(fā)展趨勢

一、引言真空電阻爐是一種在真空環(huán)境下工作的電阻加熱設(shè)備，其工作環(huán)境使其在眾多工業(yè)領(lǐng)域中具有廣泛的應用。本文將對真空電阻爐的原理、結(jié)構(gòu)、應用、優(yōu)勢以及未來的發(fā)展趨勢進行詳細的探討，以期為讀者提供全面而深入的認識。二、真空電阻爐的原理與結(jié)構(gòu)原理真空電阻爐的工作原理主要是利用電流通過電阻體時產(chǎn)生的熱量來加熱工件。在真空環(huán)境下，由于氣體分子的數(shù)量大大減少，熱傳導和熱對流的方式受到抑制，從而減少了熱量的損失，提高了加熱效率。同時，真空環(huán)境還可以有效防止工件在高溫下被氧化或污染。結(jié)構(gòu)真空...